ในห้องปฏิบัติการผลิตชิป การอบวัสดุโฟโตรีซิสต์ไม่ใช่เพียงข้อแนะนำเท่านั้น แต่เป็นข้อกำหนดที่จำเป็นต้องปฏิบัติตาม พูดให้เข้าใจง่ายขึ้นก็คือ...

บนพื้นโรงงาน ความเบี่ยงเบนที่ 0.5°C ในอุณหภูมิการอบสามารถเปลี่ยนรูปทรงของฟิล์มฟอโตรีซิสต์ได้ในระดับนาโนเมตร...