Menghentikan Masalah Kontaminasi Sekunder Semasa Proses Pemanasan wafer
Ketika kita berusaha untuk meningkatkan kelajuan pengeluaran, lampu inframerah yang rosak merupakan masalah besar. Namun, masalahnya bukan hanya terhad pada masa henti operasi sahaja.
Masalah sebenar berlaku apabila tiub kuarsa pecah. Tiba-tiba, serpihan kaca dan bahan kimia akan jatuh ke atas wafer tersebut. Itulah yang disebut kontaminasi sekunder, dan ia boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer dalam masa beberapa saat sahaja. Kami membina sistem pemanasan yang khusus agar perkara ini tidak berlaku.
Mencari Keseimbangan yang Tepat: Jarak dan Suhu
Sentiasa ada pertukaran antara kepadatan haba dan aspek keselamatan. Anda mahu lampu berada dekat dengan wafer agar suhu yang dihasilkan lebih tinggi. Namun, jika lampu terlalu dekat, pengembangan termal boleh menyebabkan tiub tersebut bersentuhan dengan wafer.
Kami tidak bergantung pada intuisi semata-mata. Kami mengira jarak yang selamat berdasarkan kuasa lampu dan diameter tiub, supaya sentiasa ada zon perlindungan yang memadai.
Selain itu, lampu berkuasa tinggi sangat panas—panas sehingga boleh merosakkan bracket penyangga lampu jika bahan tersebut tidak cukup tahan panas. Kami menggunakan bahan yang tidak mengembang banyak ketika dipanaskan, agar lampu tetap stabil.
Tips tambahan: Pastikan sistem penyejukan berfungsi dengan baik. Jika sistem penyejukan tidak mampu menangani haba yang dihasilkan, lampu akan rosak lebih cepat, dan risiko tiub pecah akan meningkat.
Menghalang Debu daripada Mengenai Wafer
Untuk mengelakkan debu daripada mengenai wafer, kami menggunakan penghalang fizikal. Kami menggunakan pelindung kuarsa berkualiti tinggi yang diletakkan di antara elemen pemanas dan wafer. Jika lampu rosak, pelindung ini akan menangkap serpihan tersebut. Dengan cara ini, wafer akan tetap bersih.
Kami juga sangat berhati-hati dengan bahan-bahan yang digunakan dalam mesin. Anda tidak akan menemui bahan pelekat atau bahan pengedap berkualiti rendah di kawasan pemanasan. Mengapa? Kerana bahan-bahan tersebut akan mengeluarkan gas ketika dipanaskan, lalu meninggalkan lapisan residu halus pada wafer. Dari sambungan R7 hingga komponen sokongan, setiap komponen dipilih dengan teliti agar tidak ada bahan kimia yang bocor ke dalam proses pengeluaran.
Kompromi yang Perlu Diterima
Sebenarnya, penggunaan pelindung memang akan mengurangkan sedikit tenaga inframerah yang sampai ke wafer. Ini akan menyebabkan kecekapan pemanasan menurun sedikit. Untuk mengatasi masalah ini, anda mungkin perlu meningkatkan kuasa lampu atau mengubah masa proses pengeluaran. Namun, ini merupakan harga yang perlu dibayar. Lebih baik meluangkan sedikit masa tambahan untuk proses pengeluaran daripada membuang keseluruhan kumpulan wafer kerana satu lampu sahaja yang rosak.