Fotorezistin yumuşak pişirilmesi sırasında sıcaklıkta meydana gelen %5’lik bir değişiklik, kritik boyutları hızla etkiler. OLED yapıları da bunu hemen fark eder. Kurutucunun belirlenen sıcaklığı koruması ve bu işlemi tekrarlaması gerekiyor. Biz de OLED üretimi için gerekli olan kurutucuyu tam olarak bu gereksinimler göz önünde bulundurularak tasarladık.
Önemli olan faktörler
NIR ışığını sıkı spektral kontrol altında kullanıyoruz; böylece enerji, fotorezist ve substratın emdiği yerlere gitmiş olur, odanın ısınmasına yol açmaz. Hedef, wafer düzeyinde ±0,1°C’lik termal düzenliliktir ve bu değerler sürekli olarak korunur. Çıktı değerleri 24 saat boyunca stabil kalır; bakım aralıkları 5.000 saatten fazladır ve yoğunluk kaybı %5’in altındadır. Cihaz, Class 1–100 standardlarına uygun şekilde tasarlanmıştır ve parça üretimi sırasında herhangi bir sorun oluşmaz – gaz salınımı, dökülme veya sıcak noktalar yoktur.
Neden OLED litografi ve fotorezist işlemleri için uygundur?
OLED litografisinde, kalınlık, yapışma özellikleri ve kenar bölgelerindeki sorunların giderilmesi için tutarlı yumuşak ve sert pişirme prosedürlerine ihtiyaç vardır. Bu cihaz, termal koşulları belirlenen standartlar içinde tutar; böylece işlemler daha düzgün ilerler ve yeniden işlenmesi gereken ürünler azalır. Hızlı termal tepki süresi, işlem süresini kısaltır; odaklanmış enerji profili ise enerji tüketimini azaltır. Böylece üretim verimliliği artar ve işlemler daha sorunsuz gerçekleşir.
Kullanıldığında neler beklenir?
Bu cihaz, mevcut kurutuculara entegre edilmek üzere tasarlanmıştır; ancak entegrasyon hâlâ odanın geometrisine ve hava akışına bağlıdır. Fotorezist ve substrat yapılarına uygun şekilde ayarlamalar yapabilmek için kısa bir devreye alma süresi gereklidir. Ayarlandıktan sonra bakım oldukça kolaydır – lambalar zamanında değiştirilir, optik bileşenler temiz tutulur ve sistem istenen değerleri korur.