フォトレジストのソフトベイク時に温度が5％も変動すると、重要な寸法が急速に変わってしまいます。OLEDスタックでもすぐにその影響が現れます。そのため、乾燥装置は所定の温度を維持し続ける必要があります。私たちは、このような状況に対応するためにOLED製造用の乾燥ランプを開発しました。
内部で何が重要か NIR光を使用する際は、スペクトルを厳密に制御することで、エネルギーがフォトレジストや基板が吸収する場所にだけ届き、チャンバー全体が過度に加熱されないようにします。目標としては、ウェーハ全体の温度が±0.1℃以内で安定し、設定値の再現性も高いことです。出力は24時間体制で安定しており、メンテナンス間隔は5,000時間以上で、強度の変動も5％未満です。また、この装置はクラス1～100のクリーンルーム環境に適しており、粒子の発生もなく、剥離やホットスポットもありません。
なぜOLEDリソグラフィーやフォトレジスト処理に適しているのか OLEDリソグラフィーでは、厚さや接着性、エッジ部分の処理を均一に保つために、一定のソフトベイクおよびハードベイク条件が必要です。このランプにより、温度管理が適切に行われ、露光条件が均一に保たれるため、再作業の必要性が減ります。また、迅速な温度応答により工程時間が短縮され、エネルギー消費も抑えられます。これにより、工程の幅が広がり、歩留まりが向上し、ベイクに関連する問題も少なくなります。
実際に使用した場合の効果 このランプは既存の乾燥装置に簡単に取り付けられますが、その統合は依然としてチャンバーの形状や空気流に依存します。フォトレジストや基板の構造に合わせてパラメータを調整するために、短い試運転期間を設ける必要があります。一度調整が完了すれば、メンテナンスも予測可能になります。定期的にランプを交換し、光学系を清潔に保てば、システムは必要な数値を維持してくれます。