Kurutma on Primary Warm IR Heat Source

Fabrika kurutma işlemi için enerji denetimi

Wed, 29 Jul 2026 03:39:40 +0800

Isıtıcıların waflarınızı mahvetmesine izin vermeyin.
Eğer 100 sınıfı bir temiz oda kullanıyorsanız, bu durumun ne kadar kötü olabileceğini zaten biliyorsunuzdur. Küçük bir kir parçası ya da ısıtıcı elementlerden kaynaklanan gazlar yüzünden waflarınız kullanılamaz hale gelebilir. Bu, en küçük bir hatanın bile tamamen başarısızlığa yol açtığı çok hassas bir süreçtir.

İşte bu yüzden geleneksel ısıtıcıları kullanmayı bırakıp IR lambalarımız için yüksek saflıkta sentetik kuvars kullandık.
Sır kuvarsta yatıyor.
Neredeyse hiç safsızlık içermeyen füzyonlu silika kullanıyoruz. Eğer daha önce ucuz kuvars kullandıysanız, birkaç ısıtma döngüsünden sonra bunun “bulanık” bir görünüm kazandığını biliyorsunuzdur. Bizimkilerde böyle bir durum olmuyor. Kuvarslar her zaman berrak kalır ve kimyasal olarak inerttir; yani fabrikadaki maddelerle reaksiyona girmezler. Böylece ihtiyacınız olan ısıyı elde edebilirsiniz, metal iyonlarının işlem sürecine karışmasından endişelenmenize gerek kalmaz.

OLED üretimi için kurutma lambası

Wed, 24 Jun 2026 00:41:50 +0800

Fotorezistin yumuşak pişirilmesi sırasında sıcaklıkta meydana gelen %5’lik bir değişiklik, kritik boyutları hızla etkiler. OLED yapıları da bunu hemen fark eder. Kurutucunun belirlenen sıcaklığı koruması ve bu işlemi tekrarlaması gerekiyor. Biz de OLED üretimi için gerekli olan kurutucuyu tam olarak bu gereksinimler göz önünde bulundurularak tasarladık.

Önemli olan faktörler
NIR ışığını sıkı spektral kontrol altında kullanıyoruz; böylece enerji, fotorezist ve substratın emdiği yerlere gitmiş olur, odanın ısınmasına yol açmaz. Hedef, wafer düzeyinde ±0,1°C’lik termal düzenliliktir ve bu değerler sürekli olarak korunur. Çıktı değerleri 24 saat boyunca stabil kalır; bakım aralıkları 5.000 saatten fazladır ve yoğunluk kaybı %5’in altındadır. Cihaz, Class 1–100 standardlarına uygun şekilde tasarlanmıştır ve parça üretimi sırasında herhangi bir sorun oluşmaz – gaz salınımı, dökülme veya sıcak noktalar yoktur.

Otomatik tabaka kurutma ısıtıcısı

Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800

Spin-dry döngüsü kapanır ve wafer hâlâ ıslaktır. Standart bir ısıtıcı yerleşmek için çok uzun sürer ve chuck sıcaklığı yüzey boyunca dalgalanır. Sonuç hemen görülür—kalıntı, desen kayması ve artan hurda oranı. Hat üzerinde, kurutma ve pişirme adımı duruş süresi değildir. Kontrollü bir termal harekettir. Isı sabit değilse, fotoresist profili kayar, CD kontrolü sıkılaşır ve parçacıklar istenmeyen noktalarda ortaya çıkar. Otomatik wafer kurutma ısıtıcısı, bu değişkenliği süreçten çıkarmamızı sağlar.

Kaputun altındaki önemli noktalar

Bu birimi, proses penceresi boyunca wafer seviyesinde ±0.1°C içinde tutan, doğrudan ve hızlı tepki veren bir ısıtma platformu etrafında tasarladık. Kalbi, düşük termal kütleye sahip bir eleman ile yüksek hassasiyetli sensörler ve kapalı döngü kontrolün eşleşmesidir. Set noktaları tarifeyi saniyeler içinde takip eder, dakikalar değil; böylece aşım olmaz. Yumuşak pişirme ve sert pişirme profillerini ±0.2°C tekrar edilebilirlik sınırları içinde çalıştırır.