ตัวควบคุมแรงดันไฟฟ้าสำหรับแผนก IR

Sat, 06 Jun 2026 00:53:09 +0800

ในพื้นที่โรงงาน ผลการอบ photoresist จะถูกกำหนดด้วยระดับนาโนเมตรและองศา ความเบี่ยงเบน 0.5°C ในการอบแบบ soft bake หรือ hard bake สามารถเปลี่ยนความเบี่ยงเบนมิติเชิงวิกฤต ปรับควบคุมความกว้างของเส้นและทำให้ต้องทิ้งเต็มล็อต IR heating stack ในเครื่อง track หรือ coater ของคุณไม่ยอมรับความแปรปรวนของแรงดันไฟฟ้า—กำลังไฟของหลอดไฟ ความเสถียรของสเปกตรัม และการตั้งอุณหภูมิ จะสัมพันธ์โดยตรงกับแหล่งจ่ายไฟ

สิ่งที่สำคัญในเชิงเทคนิค
เราพัฒนา voltage regulator สำหรับ fab IR เพื่อรักษากำลังไฟของหลอดให้อยู่ในช่วงความคลาดเคลื่อนที่แคบ เพื่อรักษางบประมาณความร้อนสำหรับการผ่าน wafer ทุกครั้ง ภายใต้ความผันผวนของสายไฟ รีกูเรเตอร์จะรักษาความเสถียรของเอาต์พุตที่ ±0.1% ซึ่งทำให้อุณหภูมิของ wafer ในระดับ ±0.1°C ทั่วทั้ง bake plate ตัวอุปกรณ์ถูกออกแบบให้เหมาะกับพื้นที่ cleanroom คลาส 1–100 ด้วยโครงสร้างปิดผนึกและวัสดุที่ปล่อยสารน้อย จึงทำให้การเกิดอนุภาคเป็นศูนย์ในขณะปฏิบัติงาน ความสามารถในการทำซ้ำได้มาจากการควบคุมแบบวงปิดและโปรไฟล์ ramp-and-soak ที่ทำซ้ำได้ ซึ่งทำให้การอบ soft bake และ hard bake แต่ละชุดเท่ากับชุดก่อนหน้า

เหตุผลที่รักษาคุณภาพได้ในกระบวนการ lithography
ในขั้นตอนการอบที่เกี่ยวข้องกับ lithography การคงพลังงาน IR อย่างสม่ำเสมอช่วยลดเอฟเฟกต์ผิว photoresist และลดการกักเก็บตัวทำละลาย ส่งผลให้ผลผลิตดีขึ้นและลดงานแก้ไข การควบคุมอุณหภูมิที่เข้มงวดทำให้เวลาตั้งตัวลดลงและลดความแตกต่างในล็อตเดียวกัน จึงขยายหน้าต่างกระบวนการได้โดยไม่เพิ่มการใช้พลังงานสูงขึ้น ออกแบบมาเพื่อการทำงานในโรงงานต่อเนื่อง 24/7 โดยใช้ส่วนประกอบที่มีความทนทานสำหรับการใช้งานต่อเนื่องและการกัดวงจรความร้อน ข้อมูลจากภาคสนามแสดงความเสถียรที่ยั่งยืนกว่า 5,000+ ชั่วโมง โดยมีการเปลี่ยนแปลงเอาต์พุตน้อยที่สุด

หน่วยงานกำกับดูแล on Primary Warm IR Heat Source

ตัวควบคุมแรงดันไฟฟ้าสำหรับแผนก IR