Лампа инфракрасного излучения короткой волны на основе полупроводников

Wed, 17 Jun 2026 11:05:32 +0800

На линии длиной 300 мм достаточно изменения температуры на 1°C во время процесса обработки фотополимера, чтобы нарушить контроль над критическими размерами и снизить качество продукции. Мы разработали специальные лампы с длинноволновым инфракрасным излучением, чтобы устранить эту проблему. Важна не только сама процедура нагрева, но и теплостабильность.

Энергия длинноволнового инфракрасного излучения быстро поглощается прямо в слое фотополимера, поэтому не возникает проблем с тепловой инерцией подложки. Наши лампы обеспечивают однородность температуры по всей поверхности пластины в пределах ±0,1°C; точность установления заданной температуры составляет ±0,2°C. Время реакции ламп составляет менее 50 мс, что позволяет сохранять стабильный тепловой профиль без выхода за пределы заданных параметров.

Волна on Primary Warm IR Heat Source

Лампа инфракрасного излучения короткой волны на основе полупроводников