Op een productielijn van 300 mm is een temperatuurschommeling van 1°C tijdens het bakproces voldoende om de controle over de cruciale dimensies te verstoren en daardoor ook de productiekwaliteit te beïnvloeden. We hebben onze kortegolflange infraroodlampen ontworpen om deze variabelen buiten beschouwing te laten. Het gaat hier niet alleen om het opwarmen van het materiaal, maar ook om de thermische stabiliteit.
Het belangrijkste is dat de energie van de SWIR-lampen snel wordt opgenomen door de laag fotoresistent, zodat er geen strijd is met de thermische inertie van het materiaal. Onze lampen zorgen voor een constante temperatuur van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer, terwijl de herhaalbaarheid van de temperatuur op ±0,2°C ligt. De reactietijd is minder dan 50 ms, zodat de thermische parameters goed worden gereguleerd.
De compatibiliteit met schone ruimtes is vanaf het begin ingebouwd in de lampen. We gebruiken materialen die voldoen aan de normen van klasse 1–100, we zorgen ervoor dat er geen deeltjes worden gegenereerd, en we regelen de afvoer van gassen zodat deze niet in de buurt van het expositiegebied terechtkomen. De kwartsomhulsels en de reflectorstructuur zorgen ervoor dat er geen fotochemisch lawaai wordt veroorzaakt tijdens het bakproces.
Bij lithografie bepalen de ‘soft bake’- en ‘hard bake’-methoden hoeveel oplosmiddel wordt gebruikt en hoe het profiel van de fotoresistent eruitziet. Goede temperatuurregulatie zorgt voor een lagere ruwheid van de productielijn en een betere overlap tussen de verschillende lagen. Dankzij de selectieve absorptie van SWIR-lampen kunnen de bakcycli worden verkort, zonder dat de kwaliteit van het product wordt beïnvloed.
Het resultaat is een stabiele kwaliteit van het product, minder afval en een consistente dosering van het product. De energieverbruik neemt af, omdat de energie precies daar terechtkomt waar het nodig is – in de film – en niet in de verwarmingselementen.
Er zijn enkele praktische punten om in gedachten te houden: SWIR-lampen vereisen een precieze optische alignering en een schoon, gefocust thermisch systeem. Meng ze niet met bronnen met een breed spectrum, tenzij je de reflector- en filterstrategie opnieuw hebt getest. De installatietoleranties zijn nauwkeurig; als de afsluitingen te klein zijn, kan er thermische interferentie optreden tussen de verschillende zones.
Plan eerst een kort testproces om de hotspots vast te stellen en de pyrometer af te stemmen op de werkelijke emissiviteit van de fotoresistentlaag. Eenmaal dit is gedaan, blijft het proces stabiel.