Wafer on Primary Warm IR Heat Source

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Wed, 29 Jul 2026 03:26:33 +0800

Memastikan pengukuran suhu yang tepat di fasiliti pengeluaran wafer

Jika anda masih bergantung pada kaedah pengambilan sampel secara manual di fasiliti pengeluaran wafer anda, maka anda sebenarnya sedang bertindak tanpa maklumat yang tepat. Anda perlu melihat apa yang berlaku secara masa nyata. Itulah sebabnya sensor IR berketepatan tinggi sangat diperlukan. Ia membolehkan kita mengukur suhu permukaan wafer tanpa perlu menyentuhnya sama sekali.

Itulah satu-satunya cara untuk melakukannya. Jika anda cuba menyentuh wafer semasa proses pemanasan berlangsung, ia akan menyebabkan kotoran atau tekanan mekanikal pada wafer tersebut. Tiada siapa yang mahu hal ini berlaku.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sat, 25 Jul 2026 02:24:05 +0800

Menghentikan Masalah Kontaminasi Sekunder Semasa Proses Pemanasan wafer

Ketika kita berusaha untuk meningkatkan kelajuan pengeluaran, lampu inframerah yang rosak merupakan masalah besar. Namun, masalahnya bukan hanya terhad pada masa henti operasi sahaja.
Masalah sebenar berlaku apabila tiub kuarsa pecah. Tiba-tiba, serpihan kaca dan bahan kimia akan jatuh ke atas wafer tersebut. Itulah yang disebut kontaminasi sekunder, dan ia boleh merosakkan keseluruhan kumpulan wafer dalam masa beberapa saat sahaja. Kami membina sistem pemanasan yang khusus agar perkara ini tidak berlaku.

Pemanas wafer yang cekap dari segi tenaga

Wed, 22 Jul 2026 02:05:52 +0800

Hentikan pembaziran tenaga anda: Mengapa penggunaan pelindung berlapis emas sangat penting

Dalam proses pengeluaran semikonduktor, kehilangan tenaga merupakan masalah yang serius akibat reka bentuk yang buruk. Apabila menggunakan pemanas untuk memanaskan wafer, kita ingin agar setiap watt tenaga sampai ke wafer tersebut. Kebanyakan pelindung biasa membiarkan terlalu banyak tenaga hilang ke dalam badan peralatan, sehingga menyebabkan peralatan menjadi panas tanpa sebab. Itulah sebabnya kita menggunakan pelindung berlapis emas.

Mengapa emas?

Ini kerana emas mampu memantulkan cahaya inframerah dengan baik. Sementara kebanyakan bahan hanya menyerap atau menyebarkan sinar inframerah, emas pula memantulkannya kembali. Kita bukan sekadar memanaskan udara di sekitar, tetapi juga mengarahkan foton-foton tersebut ke arah sasaran. Dengan memantulkan hampir semua sinar inframerah kembali ke arah sasaran, kita dapat mencipta zon haba yang tertumpu. Yang terbaik ialah kita tidak perlu meningkatkan kuasa yang digunakan untuk mencapai suhu yang diinginkan.

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Mon, 20 Jul 2026 08:51:37 +0800

Hentikan sistem pengeringan wafer daripada berfungsi seperti ketuhar
Jika anda menggunakan lampu IR berkuasa tinggi untuk proses pengeringan wafer, anda pasti tahu betapa sukar rasanya mengawal suhu yang dihasilkan. Panas tersebut tidak akan menuju ke tempat yang diinginkan. Tanpa reflektor yang sesuai, sinaran IR tersebut akan tersebar ke merata-rata tempat. Akibatnya, bahagian dalam alat tersebut akan menjadi sangat panas sehingga boleh membahayakan orang yang berada di sekitarnya. Elektronik yang digunakan juga akan rosak akibat perubahan suhu yang drastik. Ini merupakan situasi yang sangat kacau.

Kos lampu pemanas berbentuk wafer inframerah

Wed, 08 Jul 2026 05:06:13 +0800

Mengurangkan Kos Tanpa Mengorbankan Kualiti Pemanasan Wafer
Mari kita bincangkan tekanan sebenar yang dihadapi dalam proses pembuatan semikonduktor. Keuntungan yang diperoleh sangat sedikit, jadi setiap sen memainkan peranan penting. Anda memerlukan sistem pemanasan yang efektif untuk memenuhi keperluan proses pengeluaran, tetapi anda tidak boleh sekadar menghabiskan banyak wang untuk menyelesaikan masalah ini. Jadi persoalannya adalah: bagaimana untuk mendapatkan prestasi pemanasan inframerah yang setanding dengan produk berkualiti tinggi, namun pada harga yang lebih berpatutan?

Kami telah mencipta lampu pemanas inframerah yang mampu memberikan prestasi yang setara dengan produk berkualiti tinggi, namun dengan kos yang lebih rendah. Ini bermakna anda dapat memperoleh pulangan pelaburan yang baik tanpa perlu mengorbankan kualiti proses pemanasan.

Pemanas pengeringan wafer automatik

Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800

Kitaran spin-dry terhenti, dan wafer masih basah. Pemanas standard mengambil masa terlalu lama untuk stabil, dan suhu chuck berubah-ubah di seluruh permukaan. Anda dapat lihat akibatnya dengan segera—sisa bahan, gelinciran corak, dan kadar sisa yang meningkat. Di sini di barisan pengeluaran, langkah pengeringan dan pembakaran bukan masa rehat. Ia adalah pergerakan terma yang dikawal. Jika haba tidak stabil, profil fotoresist berubah, kawalan CD menjadi ketat, dan partikel mula muncul di tempat yang tidak sepatutnya. Pemanas pengering wafer automatik adalah cara kami menghapuskan variabiliti dalam proses ini.