http://warm-ir-heate-source.com/ms/tags/mesin/ Recent content in Mesin on Primary Warm IR Heat Source Hugo ms Sun, 21 Jun 2026 01:57:02 +0800 http://warm-ir-heate-source.com/ms/posts/semiconductor-machinery-spare-parts-heater/ Sun, 21 Jun 2026 01:57:02 +0800 http://warm-ir-heate-source.com/ms/posts/semiconductor-machinery-spare-parts-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heate-source.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Alat pemanas untuk alat ganti mesin semikonduktor"></p> <p>Di bahagian penghasilan wafer, pintu ketuhar yang digunakan untuk proses pembakaran akan terbuka. Anda boleh merasainya sendiri – sekiranya suhu berubah sedikit saja, kualiti lapisan fotoresist akan menurun. Akibatnya, proses pengeluaran akan terhenti. Setiap minit yang terbuang akibat gangguan ini akan merosakkan hasil pengeluaran serta membuang wafer-wafer yang berkualiti tinggi.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam reka bentuk pemanas ini</strong><br> Kami membina pemanas untuk mesin semikonduktor menggunakan komponen berbentuk filem nipis, seperti kuarsa atau seramik. Tujuannya adalah untuk memastikan tindak balas yang cepat dan kawalan suhu yang tepat. Kami berusaha untuk mencapai tahap keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C pada setiap wafer. Reka bentuk ini juga memastikan kestabilan suhu sepanjang proses pembakaran.</p> http://warm-ir-heate-source.com/ms/posts/global-semiconductor-machinery-trade/ Thu, 18 Jun 2026 00:47:06 +0800 http://warm-ir-heate-source.com/ms/posts/global-semiconductor-machinery-trade/ <p><img src="http://warm-ir-heate-source.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Perdagangan mesin semikonduktor di peringkat global"></p> <p>Di bilik pengeluaran wafer, sebarang perubahan suhu semasa proses pemprosesan photoresist boleh <a href="https://goldisgood.com">merosakkan</a> keseluruhan hasil pengeluaran. Jumlah wafer yang boleh diproses adalah tetap, dan had suhu juga tidak boleh diubah. Tidak ada ruang untuk tekaan.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya</strong><br> Kita perlu memberi perhatian kepada faktor-faktor termal yang mempengaruhi kualiti proses litografi: proses pemanasan photoresist, serta proses penstabilan selepas pemanasan. Cahaya inframerah gelombang pendek dapat memanaskan bahan tersebut dengan cepat, sehingga mengurangkan risiko penumpukan pelarut dan masalah berkaitan efek permukaan. Selain itu, suhu wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C.</p>