Mengeringkan on Primary Warm IR Heat Source

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Wed, 29 Jul 2026 03:39:40 +0800

Jangan biarkan pemanas merosakkan wafer anda. Jika anda beroperasi di bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa seriusnya masalah ini. Sebuah zarah kecil pun boleh merosakkan wafer tersebut. Ini merupakan situasi yang sangat berisiko; kesilapan kecil saja sudah cukup untuk menyebabkan kegagalan total.

Itulah sebabnya kami berhenti menggunakan pemanas konvensional, dan beralih kepada kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk digunakan dalam lampu IR kami.

Rahsianya terletak pada kuarsa itu sendiri. Kami menggunakan silika yang hampir bebas daripada sebarang kekotoran. Jika anda pernah menggunakan kuarsa murahan, anda pasti tahu bahawa ia akan menjadi keruh setelah beberapa kitaran haba. Kuarsa yang kami gunakan pula tetap jernih dan tidak bertindak balas dengan bahan-bahan yang ada di sekelilingnya. Dengan cara ini, anda dapat memperoleh haba yang diperlukan tanpa perlu risau tentang ion logam yang mungkin masuk ke dalam proses pengeluaran anda.

Lampu pengeringan untuk pengeluaran OLED

Wed, 24 Jun 2026 00:41:50 +0800

Pada tahap yang tinggi, perubahan suhu sebanyak 5% semasa proses pemanasan photoresist akan menyebabkan perubahan ketara pada dimensi komponen tersebut. OLED pula akan menunjukkan kesan ini dengan segera. Mesin pengering perlu mencapai suhu yang ditetapkan, mengekalkannya, dan mengulangi proses ini berulang kali. Kami telah mereka bentuk lampu pengering untuk proses pembuatan OLED agar sesuai dengan keperluan ini.

Apa yang penting di baliknya
Kami menggunakan cahaya NIR dengan kawalan spektrum yang ketat, agar tenaga cahaya hanya sampai ke tempat yang diperlukan oleh photoresist dan substrat, bukan untuk memanaskan seluruh ruang pengeringan. Matlamatnya adalah untuk mencapai keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, dengan ketepatan yang tinggi. Keluaran tenaga tetap stabil sepanjang masa, dengan jarak masa antara penyelenggaraan sekitar 5,000 jam, dan perubahan intensiti tenaga kurang dari 5%. Reka bentuknya juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan zarah-zarah berbahaya, tanpa pembebasan gas, tanpa kehilangan bahan, dan tanpa titik panas.

Pemanas pengeringan wafer automatik

Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800

Kitaran spin-dry terhenti, dan wafer masih basah. Pemanas standard mengambil masa terlalu lama untuk stabil, dan suhu chuck berubah-ubah di seluruh permukaan. Anda dapat lihat akibatnya dengan segera—sisa bahan, gelinciran corak, dan kadar sisa yang meningkat. Di sini di barisan pengeluaran, langkah pengeringan dan pembakaran bukan masa rehat. Ia adalah pergerakan terma yang dikawal. Jika haba tidak stabil, profil fotoresist berubah, kawalan CD menjadi ketat, dan partikel mula muncul di tempat yang tidak sepatutnya. Pemanas pengering wafer automatik adalah cara kami menghapuskan variabiliti dalam proses ini.