IR on Primary Warm IR Heat Source

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Wed, 29 Jul 2026 03:26:33 +0800

Memastikan pengukuran suhu yang tepat di fasiliti pengeluaran wafer

Jika anda masih bergantung pada kaedah pengambilan sampel secara manual di fasiliti pengeluaran wafer anda, maka anda sebenarnya sedang bertindak tanpa maklumat yang tepat. Anda perlu melihat apa yang berlaku secara masa nyata. Itulah sebabnya sensor IR berketepatan tinggi sangat diperlukan. Ia membolehkan kita mengukur suhu permukaan wafer tanpa perlu menyentuhnya sama sekali.

Itulah satu-satunya cara untuk melakukannya. Jika anda cuba menyentuh wafer semasa proses pemanasan berlangsung, ia akan menyebabkan kotoran atau tekanan mekanikal pada wafer tersebut. Tiada siapa yang mahu hal ini berlaku.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Sun, 12 Jul 2026 05:12:16 +0800

Menghentikan Kebocoran Panas dalam Peralatan Semikonduktor Anda
Masalahnya ialah apabila lampu IR diletakkan di dalam bilik semikonduktor: fizik tidak mengambil kira keadaan peralatan tersebut. Panas akan tersebar ke semua arah, tetapi bahan yang diproses hanyalah sebahagian kecil daripada ruang tersebut. Jika tiada cara untuk mengarahkan tenaga tersebut, ia akan terus memancar dan memberi tekanan pada dinding dalaman mesin. Akibatnya, mesin akan menjadi terlalu panas, dan ini akan menimbulkan masalah keselamatan yang serius apabila seseorang menyentuh permukaan luar mesin tersebut. Tiada siapa yang ingin berhadapan dengan mesin yang terlalu panas sehingga boleh mencederakan pengendalinya.

Hujung kaca seramik untuk pemancar IR

Thu, 09 Jul 2026 15:14:25 +0800

Pendahuluan
Dunia semikonduktor sedang berubah dengan pesat. Kita semua berada di bawah tekanan untuk menggantikan penggunaan plumbum dan mengurangkan penggunaan tenaga. Realiti ini memaksa kita untuk mencari penyelesaian yang efektif dalam proses pengeringan. Sejujurnya, kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah telah menjadi penyelesaian terbaik di seluruh dunia.

Mengapa? Ia sangat mudah. Kaedah ini memberikan haba yang cepat dan tepat, tanpa sisa bahan kimia yang timbul daripada sistem yang menggunakan pelarut. Komponen utama dalam kaedah ini ialah pemancar inframerah jenis seramik. Komponen ini mampu menahan haba yang tinggi setiap hari, sambil tetap memenuhi keperluan ketat dari segi kebolehpercayaan dan kualiti dalam proses pengeluaran.

Penstabil voltan untuk fab IR

Sat, 06 Jun 2026 00:53:09 +0800

Pada lantai fabrikasi, prestasi pembakaran photoresist bergantung pada nanometer dan darjah. Peralihan 0.5°C dalam pembakaran lembut atau pembakaran keras boleh mengubah bias dimensi kritikal, merosakkan kawalan lebar garis, dan menyebabkan satu lot keseluruhan dibuang. Tumpukan pemanasan IR dalam track atau coater anda tidak memaafkan variasi voltan—output lampu, kestabilan spektral, dan penyesuaian termal semuanya berkaitan langsung dengan bekalan.

Apa yang penting, dari segi teknikal
Kami membina pengatur voltan untuk IR fab bagi mengekalkan kuasa lampu dalam toleransi ketat, supaya anda dapat mengekalkan belanjawan terma untuk setiap laluan wafer. Di bawah turun naik garis, pengatur memastikan kestabilan output pada ±0.1%, yang membolehkan keseragaman suhu tahap wafer pada ±0.1°C di seluruh plat pembakaran. Rangkaian ini sedia untuk bilik bersih Kelas 1–100: binaan tertutup dan bahan rendah pengeluaran gas supaya penghasilan zarah kekal sifar semasa operasi. Kebolehulangan dicapai melalui kawalan gelung tertutup dan profil kenaikan dan rendaman yang berulang, supaya setiap pembakaran lembut dan keras menghasilkan keputusan sama seperti kumpulan terakhir.