http://warm-ir-heate-source.com/ms/tags/global/ Recent content in Global on Primary Warm IR Heat Source Hugo ms Thu, 18 Jun 2026 00:47:06 +0800 http://warm-ir-heate-source.com/ms/posts/global-semiconductor-machinery-trade/ Thu, 18 Jun 2026 00:47:06 +0800 http://warm-ir-heate-source.com/ms/posts/global-semiconductor-machinery-trade/ <p><img src="http://warm-ir-heate-source.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Perdagangan mesin semikonduktor di peringkat global"></p> <p>Di bilik pengeluaran wafer, sebarang perubahan suhu semasa proses pemprosesan photoresist boleh <a href="https://goldisgood.com">merosakkan</a> keseluruhan hasil pengeluaran. Jumlah wafer yang boleh diproses adalah tetap, dan had suhu juga tidak boleh diubah. Tidak ada ruang untuk tekaan.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya</strong><br> Kita perlu memberi perhatian kepada faktor-faktor termal yang mempengaruhi kualiti proses litografi: proses pemanasan photoresist, serta proses penstabilan selepas pemanasan. Cahaya inframerah gelombang pendek dapat memanaskan bahan tersebut dengan cepat, sehingga mengurangkan risiko penumpukan pelarut dan masalah berkaitan efek permukaan. Selain itu, suhu wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C.</p>