Fab on Primary Warm IR Heat Source

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Wed, 29 Jul 2026 03:39:40 +0800

Jangan biarkan pemanas merosakkan wafer anda. Jika anda beroperasi di bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa seriusnya masalah ini. Sebuah zarah kecil pun boleh merosakkan wafer tersebut. Ini merupakan situasi yang sangat berisiko; kesilapan kecil saja sudah cukup untuk menyebabkan kegagalan total.

Itulah sebabnya kami berhenti menggunakan pemanas konvensional, dan beralih kepada kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk digunakan dalam lampu IR kami.

Rahsianya terletak pada kuarsa itu sendiri. Kami menggunakan silika yang hampir bebas daripada sebarang kekotoran. Jika anda pernah menggunakan kuarsa murahan, anda pasti tahu bahawa ia akan menjadi keruh setelah beberapa kitaran haba. Kuarsa yang kami gunakan pula tetap jernih dan tidak bertindak balas dengan bahan-bahan yang ada di sekelilingnya. Dengan cara ini, anda dapat memperoleh haba yang diperlukan tanpa perlu risau tentang ion logam yang mungkin masuk ke dalam proses pengeluaran anda.

Kotak pemanas diperbuat daripada keluli tahan karat

Wed, 29 Jul 2026 03:19:32 +0800

Hentikan masalah yang disebabkan oleh lampu inframerah yang rosak
Jika anda pernah menghadapi situasi di mana lampu inframerah anda rosak semasa beroperasi pada beban yang tinggi, anda pasti tahu betapa menyusahkannya keadaan tersebut. Masalahnya bukan sekadar haba yang berlebihan, tetapi juga kekacauan yang berlaku akibatnya. Tiub kuarza yang rosak akan bertindak seperti “meriam serpihan kaca”, menyebabkan serpihan kaca dan gas halogen tersebar di seluruh kawasan kerja. Dalam masa singkat sahaja, wafer-wafer yang digunakan akan tercemar, dan pasukan kerja pula perlu menghabiskan masa berjam-jam untuk membersihkan kawasan tersebut. Ini merupakan masalah yang sangat menyusahkan.

Pengilang lampu pengeringan inframerah yang berdaftar

Thu, 23 Jul 2026 09:20:48 +0800

Hentikan keadaan yang tidak diingini: Jaga kebersihan wafer semasa proses pengeringan menggunakan IR
Jika anda pernah menghadapi masalah lampu yang pecah di tengah-tengah proses pembuatan wafer, anda pasti tahu betapa buruknya keadaan tersebut. Ia bukan sekadar masalah mesin yang berhenti berfungsi; ia juga menyebabkan kekacauan yang teruk.

Apabila tiub kuarz patah akibat beban yang berlebihan, bukan sahaja mentolnya yang rosak, tetapi serpihan kaca dan bahan logam juga akan jatuh ke atas wafer silikon. Dalam masa hanya beberapa saat saja, seluruh batch wafer boleh musnah. Ini merupakan situasi yang mahal dan memeningkan kepala, namun ia sebenarnya boleh dielakkan.

Lampu inframerah daripada serat karbon

Thu, 23 Jul 2026 09:14:08 +0800

Membuat kilang anda lebih cekap dengan penggunaan lampu inframerah berbahan karbon fiber
Jika anda sedang membina kilang moden, anda pasti tahu bahawa mengawal suhu merupakan cabaran yang besar. Namun, rahsianya ialah bukan sekadar memanaskan bahan tersebut. Yang penting adalah data yang diperoleh semasa proses pemanasan berlaku.

Itulah sebabnya kita menggunakan lampu inframerah berbahan karbon fiber. Lampu ini bertindak dengan lebih cepat berbanding lampu logam tradisional. Ia mampu mencapai suhu yang diinginkan dalam masa yang singkat.

Penstabil voltan untuk fab IR

Sat, 06 Jun 2026 00:53:09 +0800

Pada lantai fabrikasi, prestasi pembakaran photoresist bergantung pada nanometer dan darjah. Peralihan 0.5°C dalam pembakaran lembut atau pembakaran keras boleh mengubah bias dimensi kritikal, merosakkan kawalan lebar garis, dan menyebabkan satu lot keseluruhan dibuang. Tumpukan pemanasan IR dalam track atau coater anda tidak memaafkan variasi voltan—output lampu, kestabilan spektral, dan penyesuaian termal semuanya berkaitan langsung dengan bekalan.

Apa yang penting, dari segi teknikal
Kami membina pengatur voltan untuk IR fab bagi mengekalkan kuasa lampu dalam toleransi ketat, supaya anda dapat mengekalkan belanjawan terma untuk setiap laluan wafer. Di bawah turun naik garis, pengatur memastikan kestabilan output pada ±0.1%, yang membolehkan keseragaman suhu tahap wafer pada ±0.1°C di seluruh plat pembakaran. Rangkaian ini sedia untuk bilik bersih Kelas 1–100: binaan tertutup dan bahan rendah pengeluaran gas supaya penghasilan zarah kekal sifar semasa operasi. Kebolehulangan dicapai melalui kawalan gelung tertutup dan profil kenaikan dan rendaman yang berulang, supaya setiap pembakaran lembut dan keras menghasilkan keputusan sama seperti kumpulan terakhir.