Pada garis produksi sepanjang 300 mm, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran fotoresist sudah cukup untuk mengganggu kawalan dimensi kritikal bahan tersebut, sehingga menjejaskan kadar pengeluaran. Kami telah mencipta sistem lampu inframerah gelombang pendek (SWIR) untuk mengatasi masalah ini. Yang penting bukanlah sekadar pemanasan, tetapi juga stabiliti suhu.
Energi SWIR diserap dengan cepat ke dalam lapisan fotoresist, jadi tidak perlu berhadapan dengan masalah inersia termal substrat. Lampu kami mampu memastikan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan yang dibakar, manakala ketepatan titik suhu pula adalah sekitar ±0.2°C. Masa tindak balas lampu adalah kurang dari 50 ms, jadi profil suhu dapat dikawal dengan baik tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan.
Keserasian dengan bilik bersih juga merupakan ciri penting lampu ini. Kami menggunakan bahan-bahan yang memenuhi standard Kelas 1–100, serta memastikan tiada zarah terbentuk. Udara panas yang dihasilkan akan dialirkan ke tempat yang sesuai, agar tidak mengganggu proses eksposur. Selain itu, struktur reflektor yang digunakan dapat mengurangkan cahaya yang tidak diperlukan, sehingga lampu ini tidak menyebabkan gangguan fotokimia semasa proses pembakaran.
Dalam proses litografi, kaedah pembakaran yang sesuai akan membantu mengawal jumlah pelarut yang digunakan serta memastikan profil fotoresist tetap stabil. Kawalan suhu yang tepat akan membantu mengurangkan ketidakteraturan lebar garisan dan memastikan ketepatan penempatan lapisan fotoresist. Penggunaan energi SWIR yang efektif akan mengurangkan masa proses pembakaran, sambil tetap memastikan kawalan profil suhu yang baik.
Hasilnya, dimensi kritikal bahan akan tetap stabil, jumlah bahan yang terbuang akan berkurangan, dan prestasi proses akan konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Penggunaan tenaga juga akan berkurangan, kerana tenaga tersebut digunakan untuk tujuan yang sebenarnya, iaitu untuk memanaskan lapisan fotoresist, bukan untuk pemanasan komponen lain.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diambil kira: Lampu SWIR memerlukan penyesuaian optik yang tepat serta persekitaran termal yang bersih dan terkawal. Jangan gunakan lampu ini bersama-sama dengan sumber cahaya spektrum luas, kecuali jika reflektor dan filternya disesuaikan semula. Toleransi pemasangan juga sangat ketat; jika struktur penahan panasnya tidak mencukupi, gangguan termal antara zon-zon yang bersebelahan boleh berlaku.
Rancanglah ujian awal untuk mengenal pasti kawasan yang panas dan menyesuaikan alat pengukur suhu agar sesuai dengan emisiviti sebenar lapisan fotoresist. Setelah itu, proses pembakaran akan dapat dikawal dengan lebih baik.