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		<title>貿易 on Primary Warm IR Heat Source</title>
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				<title>世界の半導体製造装置の貿易</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heate-source.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;世界の半導体製造装置の貿易&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ファブの現場では、フォトレジスト処理中に温度がわずかに変動しても、そのウェーハは使えなくなってしまいます。ウェーハの数は&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;固定&lt;/a&gt;されており、熱管理も絶対に緩めることはできません。推測の余地はありません。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;技術的に重要なのは何か&lt;/strong&gt;&#xA;リソグラフィーの歩留まりを左右する熱的要素に&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;焦点&lt;/a&gt;を当てます。具体的には、フォトレジストのソフトベイク、ハードベイク、および塗布後の安定化処理です。短波長の赤外線は、膜全体に迅速に熱を伝えるため、溶剤が膜内に残るのを防ぎ、スキン効果も避けられます。また、ウェーハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことができます。&lt;/p&gt;</description>
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