乾燥 on Primary Warm IR Heat Source

製造工程における乾燥工程のエネルギー診断

Wed, 29 Jul 2026 03:39:39 +0800

もう、ヒーターがウェーハを台無しにするのを許してはいけません。
クラス100のクリーンルームで作業を行っている方なら、その恐ろしさはご存知でしょう。わずかなほこりや、ヒーターから放出されるガスだけで、ウェーハは使えなくなってしまいます。これは、最も小さなミスでも全体の失敗につながる、極めて重要な作業です。

OLED製造用乾燥ランプ

Wed, 24 Jun 2026 00:41:50 +0800

フォトレジストのソフトベイク時に温度が5％も変動すると、重要な寸法が急速に変わってしまいます。OLEDスタックでもすぐにその影響が現れます。そのため、乾燥装置は所定の温度を維持し続ける必要があります。私たちは、このような状況に対応するためにOLED製造用の乾燥ランプを開発しました。

内部で何が重要か NIR光を使用する際は、スペクトルを厳密に制御することで、エネルギーがフォトレジストや基板が吸収する場所にだけ届き、チャンバー全体が過度に加熱されないようにします。目標としては、ウェーハ全体の温度が±0.1℃以内で安定し、設定値の再現性も高いことです。出力は24時間体制で安定しており、メンテナンス間隔は5,000時間以上で、強度の変動も5％未満です。また、この装置はクラス1～100のクリーンルーム環境に適しており、粒子の発生もなく、剥離やホットスポットもありません。

自動ウェーハ乾燥ヒーター

Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800

スピンドライサイクルが停止しても、ウェハはまだ濡れている。標準的なヒーターは安定するまで時間がかかり、チャックの温度が表面全体で変動する。その結果はすぐに現れる—残渣、パターンスリップ、そして増加するスクラップ率。ライン上では、乾燥およびベイク工程はダウンタイムではなく、制御された熱処理の一段階である。熱が安定していなければ、フォトレジストのプロファイルがずれ、CD制御が厳しくなり、不要な箇所に粒子が付着し始める。自動ウェハ乾燥ヒーターは、このプロセスの変動を排除するための装置である。