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		<title>Automatizzato on Primary Warm IR Heat Source</title>
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		<description>Recent content in Automatizzato on Primary Warm IR Heat Source</description>
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				<title>Riscaldatore automatico per l asciugatura dei wafer</title>
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				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heate-source.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore automatico per l asciugatura dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Il ciclo di asciugatura a centrifuga si interrompe, ma il wafer è ancora bagnato. Un riscaldatore standard impiega troppo tempo per stabilizzarsi e la temperatura del chuck varia sulla superficie. Gli effetti si vedono subito: residui, spostamenti del pattern e un tasso di scarto in aumento. Qui in linea, la fase di asciugatura e bake non è un fermo macchina. È un movimento termico controllato. Se il calore non è costante, il profilo del fotoresist si modifica, il controllo delle CD si restringe e le particelle iniziano a comparire dove non dovrebbero. Il riscaldatore automatico per l’asciugatura wafer è il modo per eliminare questa variabilità dal processo.&lt;/p&gt;</description>
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