Lampu pengering untuk proses produksi OLED

Wed, 24 Jun 2026 00:41:50 +0800

Pada proses pembakaran fotoresist, perubahan suhu sebesar 5% saja sudah cukup untuk mengubah dimensi-dimensi kritis komponen tersebut secara signifikan. Hal ini akan langsung terlihat pada lapisan OLED. Mesin pengering harus mampu menjaga suhu pada titik yang ditentukan, dan melakukannya berulang-ulang, shift demi shift. Kami merancang lampu pengering untuk proses produksi OLED sesuai dengan kondisi seperti ini.

Yang penting dalam prosesnya
Kami menggunakan sinar NIR dengan kontrol spektral yang ketat, sehingga energi tersebut hanya sampai ke tempat yang dibutuhkan oleh fotoresist dan substrat, bukannya memanaskan seluruh ruang pengeringan. Tujuannya adalah mencapai tingkat keseragaman suhu di tingkat wafer sebesar ±0,1°C, dengan tingkat repetibilitas yang tinggi. Keluaran energi tetap stabil sepanjang waktu, dengan interval pemeliharaan lebih dari 5.000 jam, dan fluktuasi intensitas energi kurang dari 5%. Desain lampu ini juga cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menimbulkan partikel debu, tidak ada pelepasan gas, tidak ada kerusakan permukaan, dan tidak ada titik panas.

Pemanas pengering wafer otomatis

Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800

Siklus spin-dry berhenti, namun wafer masih basah. Pemanas standar memerlukan waktu terlalu lama untuk stabil, dan suhu chuck bergeser di seluruh permukaan. Anda langsung melihat dampaknya—residu, pergeseran pola, dan tingkat scrap yang meningkat. Di lini produksi, tahap pengeringan dan pemanggangan bukan waktu henti. Ini adalah langkah termal yang terkontrol. Jika panas tidak stabil, profil photoresist berubah, kontrol CD menjadi ketat, dan partikel mulai muncul di tempat yang tidak seharusnya. Pemanas pengering wafer otomatis adalah cara kami menghilangkan variabilitas dalam proses ini.

Mengeringkan on Primary Warm IR Heat Source

Lampu pengering untuk proses produksi OLED

Pemanas pengering wafer otomatis