Préchauffeur de wafer à soudure sans plomb

Tue, 30 Jun 2026 01:13:15 +0800

Sur la ligne de conditionnement au niveau de la wafer, la soudure sans plomb ne tolère pas l’improvisation. Si on chauffe trop peu, on obtient des vides et une mauvaise adhérence entre les éléments. Si on chauffe trop fort, les dopants migrent et les dimensions critiques changent. Ce qu’il faut, c’est un chauffage répétable et uniforme, réalisé dans une salle propre, afin que le processus puisse se dérouler correctement.

Ce qui est important en réalité Nous avons conçu ce préchauffeur en utilisant des rayons infrarouges à courte longueur d’onde, avec des éléments en quartz à réponse rapide, permettant ainsi des rampes de température rapides sans excès. L’uniformité de la température sur toute la surface de la wafer reste inférieure ou égale à ±0,1 °C. Le contrôle en boucle fermée permet de maintenir la température constante pendant toute la durée du processus. La zone de chauffe est conçue pour être utilisée dans des salles propres de classe 1–100 ; les finitions de surface et les systèmes de scellement empêchent toute génération de particules.

Préchauffeur on Primary Warm IR Heat Source

Préchauffeur de wafer à soudure sans plomb