Lámpara infrarroja de onda corta de semiconductor

Wed, 17 Jun 2026 11:05:32 +0800

En una línea de 300 mm, un cambio de temperatura de 1°C durante el proceso de secado del fotoretardo es suficiente para que se altere el control de las dimensiones críticas y, por consiguiente, se afecte la calidad del producto final. Por eso, hemos desarrollado nuestra plataforma de lámparas de infrarrojo de onda corta (SWIR) para eliminar esta variable. Lo importante no es solo el calentamiento, sino también la estabilidad térmica.

Lo que realmente importa es que la energía de tipo SWIR se absorbe rápidamente en la capa de fotoretardo, evitando así tener que lidiar con la inercia térmica del sustrato. Nuestras lámparas mantienen una uniformidad de temperatura de ±0,1°C en toda la superficie a tratar, y la repetibilidad del punto de ajuste es de ±0,2°C. La respuesta de las lámparas es inferior a 50 ms, lo que permite que el perfil térmico se mantenga dentro de los límites establecidos, sin excesos de calor.

Ola on Primary Warm IR Heat Source

Lámpara infrarroja de onda corta de semiconductor