Trocknen on Primary Warm IR Heat Source

Energieaudit für die Trocknungsanlage

Wed, 29 Jul 2026 03:39:39 +0800

Hören Sie auf, zuzulassen, dass Ihre Heizgeräte Ihre Wafer zerstören!
Wenn Sie einen Reinraum der Klasse 100 betreiben, kennen Sie dieses Problem nur zu gut. Ein winziger Staubpartikel oder etwas Gas, das von einem Heizelement ausgestoßen wird, reicht bereits aus, um Ihre Wafer unbrauchbar zu machen. Es handelt sich dabei um ein Spiel mit hohen Risiken – der kleinste Fehler führt zu einem totalen Misserfolg.

Deshalb haben wir auf herkömmliche Heizgeräte verzichtet und stattdessen hochreinen synthetischen Quarz für unsere IR-Lampen verwendet.
Das Geheimnis liegt im Quarz.
Wir verwenden verschmolzene Siliziumdioxid-Strukturen mit nahezu keinerlei Verunreinigungen. Wenn Sie schon einmal billigen Quarz verwendet haben, wissen Sie, dass dieser nach einigen Betriebszyklen trüb wird. Unser Quarz bleibt hingegen klar und chemisch inaktiv – er reagiert also nicht mit den Stoffen, die in Ihrer Produktionsumgebung vorhanden sind. So erhalten Sie die benötigte Wärme, ohne sich Sorgen darüber machen zu müssen, dass metallische Ionen in Ihren Prozess gelangen.

Trocknungsleuchte für die OLED Herstellung

Wed, 24 Jun 2026 00:41:50 +0800

Bei einer Temperaturschwankung von 5 % während des Weichbrennvorgangs des Photoresists ändern sich die kritischen Abmessungen schnell. Das wird sofort an der OLED-Baueinheit sichtbar. Der Trockner muss daher das vorgegebene Temperaturniveau halten und dieses immer wieder erreichen – Schicht für Schicht. Wir haben unsere Trockenlampe für die OLED-Herstellung genau für diese Anforderungen entwickelt.

Was wirklich wichtig ist
Wir nutzen Infrarotstrahlung mit präziser spektraler Steuerung – dadurch gelangt die Energie genau dorthin, wo der Photoresist und das Substrat sie aufnehmen, anstatt dazu zu dienen, den Behälter zu erhitzen. Ziel ist eine thermische Homogenität auf Wafer-Ebene von ±0,1 °C, wobei auch die Wiederholgenauigkeit des Temperaturniveaus stimmen muss. Die Leistung bleibt rund um die Uhr konstant – zwischen den Wartungsarbeiten vergehen mehr als 5.000 Stunden, und die Intensitätsabweichung liegt unter 5 %. Die Konstruktion ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet – es entstehen keine Partikel, es gibt kein Austreten von Gasen, keine Abschürfungen und keine Hotspots.

Automatischer Wafer Trocknungsheizer

Mon, 01 Jun 2026 12:13:07 +0800

Der Schleudertrocknungszyklus endet, und die Wafer sind noch nass. Ein Standardheizer braucht zu lange, um sich einzuregulieren, und die Chucks-Temperatur driftet über die Oberfläche. Die Folgen sieht man sofort – Rückstände, Musterverzug und eine steigende Ausschussrate. Hier in der Fertigung ist der Trocknungs- und Backschritt keine Stillstandszeit. Es ist eine kontrollierte thermische Maßnahme. Wenn die Temperatur nicht stabil ist, verschiebt sich das Photoresist-Profil, die CD-Kontrolle wird enger, und Partikel tauchen an unerwünschten Stellen auf. Der automatisierte Wafer-Trocknungsheizer ist das Mittel, um diese Variabilität aus dem Prozess zu eliminieren.