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		<title>Automatisiert on Primary Warm IR Heat Source</title>
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				<title>Automatischer Wafer Trocknungsheizer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heate-source.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Automatischer Wafer Trocknungsheizer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Der Schleudertrocknungszyklus endet, und die Wafer sind noch nass. Ein Standardheizer braucht zu lange, um sich einzuregulieren, und die Chucks-Temperatur driftet über die Oberfläche. Die Folgen sieht man sofort – Rückstände, Musterverzug und eine steigende Ausschussrate. Hier in der Fertigung ist der Trocknungs- und Backschritt keine Stillstandszeit. Es ist eine kontrollierte thermische Maßnahme. Wenn die Temperatur nicht stabil ist, verschiebt sich das Photoresist-Profil, die CD-Kontrolle wird enger, und Partikel tauchen an unerwünschten Stellen auf. Der automatisierte Wafer-Trocknungsheizer ist das Mittel, um diese Variabilität aus dem Prozess zu eliminieren.&lt;/p&gt;</description>
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