Pada tahap yang tinggi, perubahan suhu sebanyak 5% semasa proses pemanasan photoresist akan menyebabkan perubahan ketara pada dimensi komponen tersebut. OLED pula akan menunjukkan kesan ini dengan segera. Mesin pengering perlu mencapai suhu yang ditetapkan, mengekalkannya, dan mengulangi proses ini berulang kali. Kami telah mereka bentuk lampu pengering untuk proses pembuatan OLED agar sesuai dengan keperluan ini.
Apa yang penting di baliknya
Kami menggunakan cahaya NIR dengan kawalan spektrum yang ketat, agar tenaga cahaya hanya sampai ke tempat yang diperlukan oleh photoresist dan substrat, bukan untuk memanaskan seluruh ruang pengeringan. Matlamatnya adalah untuk mencapai keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, dengan ketepatan yang tinggi. Keluaran tenaga tetap stabil sepanjang masa, dengan jarak masa antara penyelenggaraan sekitar 5,000 jam, dan perubahan intensiti tenaga kurang dari 5%. Reka bentuknya juga sesuai untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan zarah-zarah berbahaya, tanpa pembebasan gas, tanpa kehilangan bahan, dan tanpa titik panas.
Mengapa ia sesuai untuk proses litografi OLED dan pemprosesan photoresist
Dalam proses litografi OLED, diperlukan profil pemanasan yang konsisten untuk memastikan ketebalan lapisan photoresist, daya lekatnya, serta penyingkiran bahan berlebihan di tepi lapisan tersebut. Lampu ini memastikan suhu tetap dalam lingkungan yang ditetapkan, sehingga proses eksposur menjadi lebih seragam dan jumlah bahan yang perlu diperbaiki berkurangan. Respons termal yang cepat membantu mengurangkan masa proses, manakala profil tenaga yang terfokus pula membantu mengurangkan penggunaan tenaga. Dengan ini, produktiviti meningkat, dan proses pengeringan berjalan lebih lancar.
Apa yang boleh diharapkan apabila lampu ini digunakan
Lampu ini direka untuk dipasang pada mesin pengering yang sedia ada, namun integrasinya masih bergantung pada geometri ruang pengeringan dan aliran udara di dalamnya. Peluangkan masa yang singkat untuk menyesuaikan tetapan lampu agar sesuai dengan jenis photoresist dan substrat yang digunakan. Setelah disesuaikan, penyelenggaraan dapat dilakukan secara berkala. Dengan cara ini, sistem akan berfungsi seperti yang diharapkan.