Mengapa Kita Beralih Dari Penggunaan Udara Panas dalam Proses Semi-Pemrosesan
Sebagian besar pabrik semikonduktor masih menggunakan metode udara panas untuk proses pemrosesan. Memang cara ini efektif, tetapi prosesnya sangat lambat. Bayangkan saja: kita harus memanaskan udara terlebih dahulu agar udara tersebut dapat memanaskan komponen yang akan diproses. Ini merupakan “perantara” yang sebenarnya tidak diperlukan, dan hal ini menyebabkan penundaan waktu pemrosesan yang signifikan.
Itulah mengapa banyak orang beralih ke teknologi inframerah (IR). IR tidak memanaskan udara; ia langsung memancarkan energi ke permukaan substrat.
Yang penting adalah waktu pemrosesan.
Dengan penggunaan udara panas, kita harus menunggu hingga seluruh ruang proses mencapai suhu tertentu sebelum komponen mulai memanas. Ini merupakan proses menunggu yang lama.
IR berbeda. Suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam hitungan detik saja. Dengan demikian, waktu pemrosesan per wafer menjadi lebih singkat. Itulah alasan utama mengapa orang-orang beralih ke teknologi IR.
Peringatan terkait kabel yang digunakan.
Ada beberapa hal yang perlu diperhatikan. Kabel biasa berbahan PVC atau silikon tidak boleh digunakan di dekat array IR ini. Panas yang dihasilkan oleh IR sangat tinggi; kabel biasa akan meleleh dalam waktu beberapa jam saja.
Kami selalu menggunakan kabel berlapis Teflon (PTFE). Kabel ini mampu bertahan terhadap panas yang ada di dalam alat pemrosesan semikonduktor, tanpa retak atau mengeluarkan gas berbahaya. Inilah satu-satunya cara untuk memastikan bahwa sirkuit tetap utuh meskipun pemanas bekerja pada kapasitas maksimal.
Kekurangan penggunaan IR.
IR bukanlah solusi ajaib. Cahaya IR bersifat terarah. Udara panas membungkus komponen seperti selimut, sedangkan IR lebih mirip sinar lampu. Jika posisi lampu tidak tepat, maka akan timbul area yang dingin. Jika bentuk komponennya rumit, diperlukan beberapa lampu yang menyinari komponen dari berbagai sudut.
Anda juga perlu memperhatikan permukaan substrat dengan seksama. Karena intensitas cahaya IR sangat tinggi, Anda bisa saja merusak permukaan substrat sebelum bagian intinya sampai memanas.
Jika Anda ingin memproduksi lebih banyak produk tanpa perlu menambah luas ruang produksi, maka IR merupakan pilihan yang tepat.